日本半导体限令剑指中国，杀伤力更甚美国？（图）

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继美国针对半导体芯片祭出对华禁令后，日本也将从7月起限制23种关键芯片制造设备出口。虽然日本的相关规定并未点名中国，但有舆论认为其杀伤力可能更甚美国。

日本将在今年7月起，限制23种关键芯片制造设备出口。

日本经济产业省23日宣布，针对23种半导体制造技术的出口限制措施将在7月23日正式生效。日经中文网指出，23个品类包括极紫外光(EUV)相关产品的制造设备，以及可立体堆叠存储元件的蚀刻设备等。按运算用逻辑半导体的性能来看，相关设备均属于制造电路线宽在10～14纳米以下的尖端芯片产品。报导指出，此举是“与美国保持步调一致。”

英国《金融时报》则披露，经过中国半导体业者检视日本预计施行的相关细则后发现，在限制中国制造半导体能力方面，日本方案对中国的杀伤力更大。有不愿透露姓名的中国芯片厂高层坦承：“日本的出口管制比美国去年的制裁更令中国不安。”

据报导，目前全球市场上光刻机制造商只剩3 家，分别为荷兰的ASML(艾司摩尔)、日本佳能(Canon)和尼康(Nikon)，这三家设备的市场占有率依序为82%、10%及8%。

日本禁令恐延伸至45纳米芯片

“日本两家光刻机厂商在沉浸式的DUV市占率比艾司摩尔高，所以日本重手全部杀下来，恐怕不是先进制程往后退的问题，很可能会消灭整个中国半导体的制造业。”台湾东吴大学企管系兼任讲师林修民对本台表示。

“日本的半导体限制令比美国还要狠！”网易知名财经博主“互联网.乱侃秀”这样来形容日本限制令的杀伤力，“日本的这23个种类的产品中，已经涉及到45纳米工艺了，比艾司摩尔、美国的限售令更为严格和范围广。”

图为，日本瑞萨电子公司的微控制器芯片。（路透社）

日本限制光阻剂出口 中国制程遭殃

林修民指出，除了光刻机之外，在半导体重要材料氢氟酸(用于半导体的蚀刻工艺)以及光阻剂(光刻机曝光使用)方面，日本市占率高达8至9成。2019年，日本曾对光阻剂在内的三种原料对韩国进行出口管制，“没有EUV顶多不能做先进制程；光阻剂不卖，所有的制程通通都做不了。”

日本光阻剂制造商JSR执行长Eric Johnson告诉《金融时报》，将极紫外光(EUV)微影这门技术练到纯熟并非易事，即使中国取得精确的化学配方，还得考虑制造时能否达成高纯度，精确及重现非常困难，而且中方也没有可支援的供应链。

据拓墣产业研究院(Topology Research Institute)今年1月发布的报告，中国是全球光阻第一大消费市场，但国产率不足10%，对外依赖程度高。在全球半导体“逆全球化”背景下，中国厂商正加快半导体光阻剂国产化，以因应可能的断供风险。

北京清华大学集成电路学院教授魏少军日前在第一财经投书，试图以日本厂商的利弊得失对日本禁令进行分析。他表示，“中国的半导体产业正在崛起，每年投入的资金近300亿美元，其中采购日本设备和材料的资金超过100亿美元，这对任何人来说都不是一个容易忽略的数字。”

美日透过经济安保遏制中国

台湾的国策研究院资深顾问陈文甲接受本台访问时表示，日前在日本广岛召开的G7峰会在美日主导下，为应对中国“经济胁迫”的措施已寻求对中国采取共同做法，就是要降低中国风险 (de-risk)，即要展开“供应链去中国化”与“弱化中国经济霸权”的经济安保。

在峰会结束后，日本立即正式提出了半导体限制令，凸显岸田政府为了更加坚定美日同盟，运用当前掌握世界半导体核心生产要素的资金、技术与材料，为避免产业链与中国相关的安全风险，使其能更广泛地与中国脱钩。

“日本用外交跟经济安保，在美日同盟基础上，会持续配合美国以结盟经济军事等手段，对中国进行围堵与遏止。”陈文甲说道。

陈文甲预期，中国未来将加大对国内半导体产业无上限资源的投入，以提高自主研发能力；其次，中国还会积极利诱与德、法、荷等欧洲国家建立技术合作，以规避美日封锁与分化欧洲与美日关系。但是，“短期内中国要实现突破仍然面临诸多困难与挑战。”

中国商务部新闻发言人23日就日本正式出台半导体制造设备出口管制措施回应表示，这是对出口管制措施的滥用，是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离，中方对此坚决反对。

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